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      二氧化鉿膜料—介紹和應用

      2020-07-24

      二氧化鉿:分子量201.49,密度9.68g/cm3,熔點2812℃,在10-2Pa真空下的蒸發溫度為2500℃??捎秒娮邮訜嵴舭l。氧化鉿薄膜的透明區為0.22~12μm,其折射率n=2.15(λ=0.25μm,Ts=250℃),n=1.95(λ=0.55μm)。

       

      二氧化鉿材料由于其熔點高、化學穩定性好、熱中子捕獲能力強,在原子能工業中具有很高的使用價值。近幾十年來,隨著光學薄膜技術的飛速發展,二氧化鉿所表現出的優異的光學性能越來越引起科技工作者的重視,特別是在近紫外到中紅外的良好透光性、高到折射率和優異的化學穩定性、成為制備高功率激光器的首先高折射率材料和其他光學膜系設計中的高折射率材料,具有很好的應用前景。

       

      二氧化鉿鍍膜材料的重要應用之一是制備高功率激光器,隨著高功率激光器對輸出功率要求的不斷提高和器件的小型化,將光學元件承受的激光能量密度推向極限,我國建造的高功率激光器,對部分小口徑的反射元件要求閾值大于30J/cm2(1054nm,1ns),如多程放大器元件中的Pick-off反射鏡,是高閾值反射元件的典型代表。用電子束蒸發方沉積二氧化鉿和二氧化硅多層反射膜,其閾值達26J/cm2(1054nm,1ns),按此工藝制備Pick-off反射鏡,基本能滿足高功率激光器對該鏡閾值涉及指標的要求。

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